射频、射频系统Issuing time:2022-07-27 15:01 PECVD 设备的反应腔体中的一个关键部件，通过提供稳定的射频输出源、快速的匹配系统及低损耗的射频回路来激发工艺气体成为高活性、高能量的等离子体 Prev通用介质薄膜
Next3D 封装、TSV 先进封装
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射频、射频系统Issuing time:2022-07-27 15:01 PECVD 设备的反应腔体中的一个关键部件，通过提供稳定的射频输出源、快速的匹配系统及低损耗的射频回路来激发工艺气体成为高活性、高能量的等离子体 Prev通用介质薄膜
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